韦春贝
- 作品数：66 被引量：154H指数：6
- 供职机构：广州有色金属研究院更多>>
- 发文基金：广东省自然科学基金广东省科技计划工业攻关项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程理学更多>>
- 一种钕铁硼永磁材料表面防护层及其制备方法
- 一种钕铁硼永磁材料表面防护层及其制备方法。其特征在于所述表面防护层依次由钕铁硼基材1；铝过渡层2和蒸发镀铝层3构成。所述的表面防护层的制备方法，其特征在于依次由下列步骤组成：1）对钕铁硼永磁材料镀前除油、除锈处理；2）工...
- 林松盛胡芳许伟代明江候惠君韦春贝石倩
- 文献传递
- 镁合金表面耐蚀改性技术被引量：36
- 2004年
- 镁及镁合金是一种极具发展潜力的轻质结构材料,但镁合金的耐蚀性较差,因此进行适当的表面处理以提高镁合金的耐蚀性能已成为目前研究的热点。微弧氧化、激光表面处理、离子注入、物理气相沉积(PVD)及等离子体注入沉积(IBAD)是近年来兴起的镁合金表面耐蚀强化新技术,这几种技术在处理镁合金耐蚀性方面已取得了一定的成果。综述了目前国内外应用这几种方法提高镁合金耐蚀性方面的研究现状,并展望了其应用前景。
- 韦春贝张春霞田修波杨士勤Ricky FuPaul K.Chu
- 关键词：镁合金耐蚀性表面处理
- 一种ZnO透明导电膜层的制备方法
- 一种ZnO透明导电膜层的制备方法。由以下步骤组成：(1)衬底除油、清洗、烘干后放入真空室中，本底真空度＜4.0×10<Sup>-3</Sup>Pa，工作温度为室温，气压0.2～0.6Pa，离子源200～400W和偏压20...
- 石倩周克崧代明江林松盛侯惠君韦春贝胡芳
- 文献传递
- 磁控溅射TiN/Cu-Zn纳米多层膜腐蚀和抗菌性能研究被引量：8
- 2010年
- 采用双靶磁控溅射的方法在不锈钢表面沉积了TiN／Cu-Zn纳米多层膜，研究了多层结构对膜层耐腐蚀性能和抗菌性能的影响，以及表面腐蚀与抗菌的关系。结果表明，Cu-Zn层比较薄时，膜层的耐腐蚀性能比较好，随着Cu-Zn层厚度的增加耐腐蚀性能显著下降。Cu-Zn层薄时，膜层抗菌性能对TLN层厚度较为敏感；而当Cu-Zn层较厚时，抗菌性能对TiN层厚度不敏感，均具有较好的抗菌性能。存在合适的多层结构，如TIN层厚度为3．3～5nm左右，Cu-Zn层厚度约为4nm时，使得膜层具有良好的抗菌性能和耐腐蚀性能。
- 韦春贝巩春志田修波杨士勤
- 关键词：磁控溅射抗菌性能
- 一种无氢掺硅类金刚石膜层及其制备方法
- 一种无氢掺硅类金刚石膜层。其特征是依次由基体(1)；金属层(2)；金属碳化物层(3)；掺硅类金刚石膜层(4)构成。制备方法是采用直流磁控溅射石墨靶、中频磁控溅射碳化硅靶或硅靶以及离子源辅助沉积，依次氩离子清洗基体；沉积金...
- 胡芳代明江林松盛侯惠君韦春贝石倩张贺勇
- 一种W-S-C复合膜的制备方法
- 一种W-S-C复合膜的制备方法。其特征是采用气体离子源辅助沉积，采用直流磁控溅射沉积金属过渡层，采用中频磁控溅射WS<Sub>2</Sub>靶沉积WS<Sub>2</Sub>和磁控溅射石墨靶形成DLC获得W-S-C复合膜...
- 代明江韦春贝林松盛侯惠君宋玉波胡芳赵利
- 过渡层制备工艺对类金刚石薄膜膜/基结合力的影响
- 类金刚石(DLC)膜是一类性能非常类似于金刚石的非晶碳膜,它具有高硬度、低摩擦系数、高弹性模量、高电阻率、良好的声学性能、高的红外透过率等,是一种非常有前途的材料,目前已开始得到广泛的应用。然而膜/基结合力差、膜内应力高...
- 韦春贝代明江龚才侯惠君林松盛
- 关键词：过渡层
- 文献传递
- Cu-Zn掺杂对TiN复合膜层组织性能的调制被引量：3
- 2009年
- 利用磁控溅射方法在不锈钢表面沉积了Cu-Zn掺杂TiN复合膜,研究不同的Cu、Zn含量对膜层结构和性能(硬度、耐磨性能以及耐腐蚀性能)的影响.结果表明,掺杂的Cu、Zn可以阻止TiN晶粒生长,随掺杂量增加TiN晶粒细化,Cu、Zn含量比较高时由于金属相长大而使膜层组织粗化.当Cu≤10.38at%,Zn≤2.19at%时,TiN以(111)晶向择优生长,且随掺杂量增加TiN(200)晶向逐渐增强.XPS结果表明膜层主要由TiN和单质Cu组成.当掺杂Cu为10.38at%、Zn为2.19at%时,复合膜具有较高的硬度和较好的耐磨性能.尽管耐腐蚀性能随着Cu、Zn含量的增加而下降,但少量的Cu-Zn掺杂可显著提高膜层钝化能力.
- 韦春贝巩春志田修波杨士勤
- 关键词：磁控溅射
- SiC/MoSi_2高温抗氧化涂层的制备及性能探究（英文）被引量：6
- 2016年
- 采用磁控溅射法在C/C复合材料表面制备Si C/Mo Si_2抗氧化涂层,并利用SEM、XRD以及EDS等测试手段对抗氧化涂层的组织结构、抗氧化性能和抗氧化机制进行了研究。结果表明,用磁控溅射法制得的涂层结构致密、厚度均匀可控,呈柱状晶。在1500℃静态氧化60 min后涂层试样的氧化质量损失为3.2×10^(-2)g·cm^(-2),涂层表现出优异的抗氧化保护性能。导致C/C基体被氧化失重的主要原因是涂层中沿晶界产生的贯穿裂纹为氧气进入基体表面提供了通道。
- 符文彬代明江韦春贝赵明纯胡亮侯惠君林松盛
- 关键词：C/C复合材料磁控溅射
- 一种半导体照明用绝缘导热膜层材料及其制备方法
- 一种半导体照明用绝缘导热膜层材料及其制备方法，其特征是依次由基材(1)；铝过渡层(2)和氮化铝膜层(3)构成。其制备方法依次包括离子束清洗基材，沉积铝过渡层和氮化铝层。本发明提供的一种半导体照明用绝缘导热薄膜材料具有良好...
- 林松盛代明江刘兰兰胡芳侯惠君韦春贝石倩
- 文献传递
