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王万泉
作品数:
2
被引量:0
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供职机构:
武汉材料保护研究所
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相关领域:
金属学及工艺
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合作作者
凌国伟
武汉材料保护研究所
倪翰
武汉材料保护研究所
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2篇
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2篇
离子氮化
2篇
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武汉材料保护...
作者
2篇
倪翰
2篇
王万泉
2篇
凌国伟
传媒
1篇
第四届全国表...
年份
2篇
2001
共
2
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材料表面等离子处理技术发展趋势和特点
本文就材料表面等离子处理技术近年来的技术发展趋势和特点加以论述,并对一些要点进行了讨论.
凌国伟
王万泉
倪翰
关键词:
物理气相沉积
PVD
离子氮化
文献传递
材料表面等离子处理技术发展趋势和特点
本文就材料表面等离子处理技术近年来的技术发展趋势和特点加以论述,并对一些要点进行了讨论。
凌国伟
王万泉
倪翰
关键词:
物理气相沉积
PVD
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