卢江
- 作品数：30 被引量：685H指数：6
- 供职机构：中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信电气工程更多>>
- 富勒烯甲苯溶液结晶的研究
- 采用类似于 Kratschmer 等人的方法得到包含有 CC等富勒烯的烟灰,经甲苯溶液提取得到 C约 85%,C约15%的混合物。用层析法分离 C和 C,甲苯作溶剂的洗脱液经高压液相分析,分别得到 C纯度为 99%以上的...
- 李凡庆张国赏卢江陈志文邢锦云贾云波李碧琳陆斌张庶元
- 关键词：富勒烯
- 文献传递
- Sb_(1.95)Bi_(0.05)Sr_(5)Ca_(4.5)O_(15.5)晶体结构及其与掺Sb的132K的Bi系超导氧化物相结构的关系
- 1991年
- 应用助熔剂缓冷法,在Bi-Sb-Sr-Ca-Cu-O体系中培养出黄色透明单晶体。通过单晶X射线衍射分析,确定该晶体为Sb_(1.95)Bi_(0.05)Sr_(5)Ca_(4.5)O_(15.5),晶胞参数为a=5.9000(9)A,b=5.7738(5)A,c=11.504(2)A,β=90.14°。它是由畸变的钙钛矿亚单元堆砌而成,属于氧缺陷化合物。
- 程庭柱姚连增范成高王奇光徐晨卢江张裕恒
- 烧结后冷却方式对Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O材料中110K相形成与性质的影响
- 1991年
- 对名义组分为Bi_(1.82)Pb_(0.37)Sr_(2)Ca_(2)Cu_(3.03)的样品于煅烧(800℃/15h)及两次烧结(858℃/90h和858℃/65h)后,采取了下面四种不同的冷却方式处理:(1)液氮淬火,(2)随炉冷却,(3)以1℃/min速率降至720℃后,在空气中淬火,(4)以0.3℃/rain降至720℃后,于空气中淬火。
- 杨碚芳王晓洋王瑞平黄允兰曾兴林卢江付娟陈琦蔡维理阮耀钟
- Bi_(3)SbSr_(4)Ca_(4)O_(y)单晶体生长及其研究
- 1991年
- 在具有132K高T_(o)的Bi-Pb-Sb-Sr-Ca-Cu-O体系中,采用助熔剂缓冷法制备了质量优良的Bi_(3)SbSr_(4)Ca_(4)O_(y)单晶。用透射电镜电子衍射和X射线衍射方法获得其晶胞参数为a=21.75A,b=5.866A,c=19.58A,β=101.8°,与和高T有关的Bi_(3)SbSr_(4)Ca_(4)Pb_(1-x)Cu_(4)O_(y)相之间有着很大的结构相关性。
- 姚连增程庭柱范成高雷远涛卢江杨丽黄允兰周贵恩张浴恒
- Bi-Sr-Ca-Cu-O体系中的单斜相与掺Ba效应的研究
- 1991年
- 采用固相反应法合成名义组份为Bi_2Sr_2Ca_(1-x)Ba_xCu_2O_y(A),Bi_(1.7)Pb_(0.3)Sr_2Ca_(2-x)Ba_xCu,O_y(B)的样品。此样品的物相和结构分析表明:在Bi系中存在着一种新的单斜相,其晶胞参量为a=24.84A,b=6.29A,c=20.70A,β=114.2°。这种单斜相和Bi系的超导电性存在着一定的关联。对于2212相,当它和单斜相共存时,在磁化曲线上出现95K左右的抗磁转变,且Ba离子的掺入促进这种单斜晶体的生长。对于掺Ba的2223相,电子衍射分析展示Ba离子进入2223相,并致使其晶体微结构产生变化,在沿b轴方向出现新的超结构,而且沿此方向同时观察到周期分别为27A,43A的两种调制模式。物性测试表明,适量Ba的掺杂可使2223相的零电阻温度提高到114K,同时在磁化曲线上出现118K的抗磁转变。这种临界温度的提高可能与2223相晶体的微结构变化有关。
- 毛志强韩智毅王瑜杨丽卢江范成高周贵恩陈兆甲张裕恒
- 关键词：BA
- 高频溅射碳化硅薄膜的退火效应被引量：6
- 1996年
- 本文采用高频溅射方法，在抛光Ｓｉ（１１１）衬底上制备出碳化硅薄膜，研究了薄膜的高温真空退火效应．实验表明，退火后的薄膜具有较为理想的结晶取向和发光性质．
- 陈伟王玉霞蔡维理汤洪高石磊卢江胡克良周贵恩赵亚盾钱逸泰
- 关键词：碳化硅薄膜退火效应
- 钽/硅多层膜在550℃退火后的局域扩散反应
- 多层膜提供了一个具有大量界面的扩散、晶化、固相反应的系统。本文研究了在550℃退火后钽/硅多层膜的结构变化。钽/硅多层膜在低温550℃退火时,由于钽、硅原子互扩散的短程性,使得钽与硅反应后形成的二硅化钽晶粒的生长取向为各...
- 卢江李凡庆陈志文谭舜陆斌张庶元王路春李齐
- 关键词：多层膜非晶硅
- 文献传递
- X射线衍射研究(001)MgO单晶上外延生长GdBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜的晶格相互关系
- 1992年
- 磁控溅射法在SrTiO_3单晶衬底上外延生长的YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜有很好的轴向晶格匹配。Zr(Y)O_2单晶衬底上YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜,由于膜和衬底的晶格常数失配较大,外延生长不是轴向晶格匹配,而是膜晶体绕c轴旋转45°后。
- 周贵恩石磊黄允兰贾云波卢江李宏成易怀仁王瑞兰张裕恒
- 关键词：超导体晶格GDBACUO
- W/C.Mo/Si,W/si,Pt/si多层膜热稳定性的电镜研究
- 本文利用横截面电镜试样方法研究了W/C、Mo/Si、W/Si、Pt/Si四种多层膜的热稳定性。它们均生长在Si（100）衬底上,其周期数分别为125,65,288,35。透射电镜实验在H—800上进行。W/C多层膜有未退...
- 蒋最敏卢江张庶元吴自勤
- 关键词：多层膜热稳定性电镜研究
- 氧离子和氮离子共注人硅形成绝缘埋层的微观结构及其光学性质
- 1991年
- 本文利用俄歇能谱和红外吸收谱研究了硅中O^+(200keV,1.8×10^(18)/cm^2)和N^+(180keV,4×10^(17)/cm^2)共注入、并经1200℃、2h退火后所形成的绝缘埋层的微观结构及其光学性质。结果表明:O^+和N^+共注入所形成的绝缘埋层是由SiO_2相和不饱和氧化硅态组成;在氧化硅埋层的两侧形成氮氧化硅薄层;表面硅-埋层的界面和埋层-体硅的界面的化学结构无明显差异。通过对波数范围在5000—1700cm^(-1)的红外反射谱的计算机模拟,得到了该绝缘埋层的折射率、厚度等有关的参数值,这些结果与离子背散射谱的分析结果相一致。本文还讨论了绝缘埋层的形成特征。
- 俞跃辉林成鲁朱文化邹世昌卢江
- 关键词：离子注入绝缘埋层微观结构光学
