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刘文宝

作品数:17 被引量:5H指数:1
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术核科学技术理学更多>>

文献类型

  • 9篇专利
  • 5篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 10篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇核科学技术
  • 1篇理学

主题

  • 8篇探测器
  • 5篇氮化镓
  • 5篇GAN
  • 4篇氮化
  • 4篇氮化物
  • 4篇肖特基
  • 4篇刻蚀
  • 4篇化物
  • 4篇光谱响应
  • 3篇雪崩
  • 3篇欧姆接触
  • 3篇紫外
  • 3篇紫外探测
  • 3篇紫外探测器
  • 2篇氮化物半导体
  • 2篇氮化物半导体...
  • 2篇导体
  • 2篇短波
  • 2篇雪崩型探测器
  • 2篇氧化物

机构

  • 17篇中国科学院

作者

  • 17篇刘文宝
  • 16篇杨辉
  • 15篇刘宗顺
  • 13篇张书明
  • 13篇赵德刚
  • 13篇朱建军
  • 12篇孙苋
  • 7篇江德生
  • 5篇张爽
  • 5篇王辉
  • 4篇段俐宏
  • 1篇王小兰
  • 1篇王海
  • 1篇王玉田
  • 1篇王莉莉
  • 1篇史永生
  • 1篇王辉

传媒

  • 3篇Journa...
  • 2篇物理学报
  • 1篇第11届全国...
  • 1篇第十四届全国...

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 7篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 3篇2007
  • 1篇2006
17 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
氮化镓基多波段探测器及其制作方法
一种氮化镓基多波段探测器,包括:一衬底;一短波段探测单元,包括:一第一宽带隙材料层生长在衬底上面一侧的三分之一处;一对第一背靠背肖特基电极生长在第一宽带隙材料层上;一中波段探测单元,包括:一第二宽带隙材料层生长在衬底上面...
刘文宝孙苋赵德刚刘宗顺张书明朱建军杨辉
氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法
一种氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法,其中该氮化镓基雪崩型探测器包括:一衬底;一N型掺杂的GaN欧姆接触层制作在衬底上;一非故意掺杂GaN吸收层制作在N型掺杂的GaN欧姆接触层上,该非故意掺杂GaN吸收层的面积小于N型掺...
刘文宝孙苋赵德刚刘宗顺张书明朱建军王辉杨辉
高性能GaN基雪崩光电二极管研究
光电子器件的漏电对其性能、稳定性、功耗等方面有着十分重要的影响。寻找漏电流的起源并采取相应的措施加以控制对研制高性能光电子器件具有十分重要的意义。本文从研制高性能雪崩探测器的目标出发,对GaN基光电二极管的漏电机理进行了...
刘文宝
利用光辅助氧化湿法刻蚀Ⅲ族氮化物的方法
一种利用光辅助氧化湿法刻蚀III族氮化物的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:利用标准的光刻工艺在III族氮化物表面制作有图案的紫外光掩蔽层;步骤2:将表面上制作有图案的紫外光掩蔽层的III族氮化物置于高能紫外光下曝...
刘文宝孙苋赵德刚刘宗顺张书明朱建军杨辉
文献传递
GaN基金属-半导体-金属探测器
在非故意掺杂的GaN外延层上制作了MSM结构的探测器.对暗电流进行了测试分析,发现在大电压下老化以后暗电流发生变化.光谱响应测量中发现带隙内的异常峰值响应现象.根据陷阱模型对它们做出了解释.
刘文宝赵德刚刘宗顺杨辉
关键词:MSM结构探测器光谱响应淬灭
文献传递
利用光辅助氧化湿法刻蚀Ⅲ族氮化物的方法
一种利用光辅助氧化湿法刻蚀III族氮化物的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:利用标准的光刻工艺在III族氮化物表面制作有图案的紫外光掩蔽层;步骤2:将表面上制作有图案的紫外光掩蔽层的III族氮化物置于高能紫外光下曝...
刘文宝孙苋赵德刚刘宗顺张书明朱建军杨辉
文献传递
Schottky结构与p-i-n结构GaN紫外探测器的制作、测量和特性比较
本文研究了Schottky结构和p-i-n结构GaN紫外探测器的结构特点和器件特性。制作了可比较的Schottky结构和p-i-n结构GaN紫外探测器,对它们的I-V特性曲线和光谱响应度曲线进行了测量和分析.经过比较发现...
张爽杨辉赵德刚刘宗顺朱建军张书明段俐宏刘文宝孙苋江德生
关键词:紫外探测器光谱响应特性
文献传递
高阻氮化镓外延层的异常光吸收
2010年
通过光伏谱(PV)的测量发现,采用MOCVD方法生长的非故意掺杂GaN外延膜,电阻较大的样品在带隙内有明显的异常光吸收.吸收峰的能量位置表明这种异常吸收可能与激子有关.在这些高阻样品上制作的MSM型探测器,当入射光照射不同位置,其光谱响应显示了区域不一致性.20V偏压下反向偏置结处的光谱响应比正向偏置结处的光谱响应大一个数量级左右,峰值响应的位置也发生明显红移现象,红移的能量约为28meV,并且几乎不随环境温度变化.根据MSM结构的电场分布不均以及带边和激子响应对电场的依赖性不同,MSM型探测器的这种区域响应不一致性可以得到很好的解释.
刘文宝赵德刚江德生刘宗顺朱建军张书明杨辉
关键词:GAN激子光谱响应
Ⅲ族氮化物纳米材料的生长方法
一种III族氮化物纳米材料的生长方法,包括如下步骤:步骤1:在衬底上依次外延生长GaN模板、SiO<Sub>2</Sub>层和Ni金属膜;步骤2:采用两步快速热退火方法,使Ni金属膜形成自组织的纳米尺寸Ni颗粒;步骤3:...
孙苋刘文宝朱建军江德生王辉张书明刘宗顺杨辉
穿透型V形坑对GaN基p-i-n结构紫外探测器反向漏电的影响被引量:1
2009年
研究了GaN基p-i-n(p-AlGaN/i-GaN/n-GaN)结构紫外探测器的漏电机理.实验发现,在位错密度几乎相同的情况下,基于表面有较高密度的V形坑缺陷材料制备的器件表现出较高的反向漏电.进一步的SEM测试发现,这种V形坑穿透到有源区i-GaN、甚至n-GaN层.在制备p-AlGaN电极时,许多金属会落在V形坑中,从而与i-GaN形成了肖特基接触,有些甚至直接和n-GaN形成欧姆接触.正是由于并联的肖特基接触和欧姆接触的存在导致了漏电的增加.
张爽赵德刚刘宗顺朱建军张书明王玉田段俐宏刘文宝江德生杨辉
关键词:GAN紫外探测器反向漏电
共2页<12>
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