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杨艳

作品数:2 被引量:5H指数:1
供职机构:中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇铁电
  • 2篇厚膜
  • 2篇复合法
  • 2篇PZT厚膜
  • 1篇射线衍射
  • 1篇铁电薄膜
  • 1篇铁电材料
  • 1篇微机电系统
  • 1篇介电
  • 1篇介电常数
  • 1篇机电系统
  • 1篇SOL
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇GEL
  • 1篇电系统

机构

  • 2篇中国科学技术...

作者

  • 2篇陈超
  • 2篇杨艳
  • 2篇褚家如
  • 2篇鲁健

传媒

  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇中国微米/纳...

年份

  • 2篇2003
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
高取向PZT厚膜的0-3复合法制备
采用0-3复合法,在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上成功制备了单层厚度0.9μm,总厚度10μm,并且无裂纹的Pb(Zr0.53,Ti0.47)O3铁电薄膜.溶液中粉体的存在减小了加热时的体积收缩,降低了制备过程中膜内部...
陈超褚家如鲁健杨艳
关键词:复合法铁电薄膜X射线衍射介电常数
文献传递
高取向PZT厚膜的0-3复合法制备被引量:5
2003年
采用 0 3复合法 ,在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上成功制备了单层厚度 0 .9μm ,总厚度 10 μm ,并且无裂纹的Pb(Zr0 .53,Ti0 .4 7)O3铁电薄膜。溶液中粉体的存在减小了加热时的体积收缩 ,降低了制备过程中膜内部产生的应力 ,从而使得单层厚度可达 0 .9μm ,防止了薄膜开裂。X射线衍射分析表明薄膜为单一钙钛矿相结构且结晶状态良好 ,采用已烧结的粉末时 ,薄膜呈〈110〉取向 ;扫描电子显微镜分析表明 ,薄膜表面无裂纹 ;介电性能测试结果显示 ,其相对介电常数可高达 115 0。为了研究粉末的状态和薄膜取向之间的关系 ,将未经烧结的未结晶的PZT粉末加入前驱溶液中 ,在相同的制备条件下 ,可得沿〈10
陈超褚家如鲁健杨艳
关键词:铁电材料PZT厚膜微机电系统
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