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文献类型

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领域

  • 7篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇正电子
  • 2篇射线衍射
  • 2篇碲化物
  • 2篇显微结构
  • 2篇X射线衍射
  • 1篇氧化铁
  • 1篇正电子寿命
  • 1篇正电子湮没
  • 1篇正电子湮灭
  • 1篇三氧化二铁
  • 1篇三元配合物
  • 1篇体效应
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  • 1篇谱学
  • 1篇谱学研究
  • 1篇喹啉
  • 1篇湮灭
  • 1篇羟基
  • 1篇羟基喹啉
  • 1篇微结构

机构

  • 5篇上海师范大学
  • 4篇中国科学院
  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇复旦大学
  • 1篇华东师范大学

作者

  • 8篇周诗瑶
  • 2篇盛春
  • 2篇范滨
  • 2篇张素英
  • 2篇彭郁卿
  • 2篇施天生
  • 1篇李和兴
  • 1篇曹锦荣
  • 1篇赵林森
  • 1篇杨海峰
  • 1篇王则民
  • 1篇张立德
  • 1篇邓景发
  • 1篇王涛

传媒

  • 1篇光谱实验室
  • 1篇上海师范大学...
  • 1篇物理学报
  • 1篇化学世界
  • 1篇核技术
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇物理化学学报

年份

  • 2篇1999
  • 1篇1998
  • 2篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1994
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
钠米材料Fe_2O_3微结构的正电子寿命谱学研究被引量:6
1994年
用X射线衍射确定了纳米材料Fe_2O_3的平均粒径。测量了正电子的寿命。给出了平均粒径随退火温度的变化和短寿命成分τ_1、中等寿命成分τ_2以及它们的强度比I_2/I_1随平均粒径的变化。讨论了纳米材料Fe_2O_3的界面结构、平均正电子寿命τ与多普勒展宽谱S参效间的对应关系。
彭郁卿王涛周诗瑶卜为张立德
关键词:氧化铁正电子湮灭
Ni-P/SiO_2催化剂晶化过程及其加氢活性研究被引量:6
1998年
采用化学还原法制备了负载型Ni-P/SiO2非晶态合金催化剂.应用ICP、BET、氢氧滴定法、XRD、SEM、XPS研究了上述催化剂在高温晶化过程中的表面结构、表面形貌和表面电子态的变化。测定了Ni-P/SiO2非晶态合金晶化前后对其液相苯甲醛加氢反应催化活性和选择性,并讨论了非晶态合金催化剂晶化过程中结构变化对催化性能的影响.
盛春周诗瑶李和兴邓景发
关键词:催化剂苯甲醛加氢非晶态合金
纳米材料Fe_2O_3的X射线衍射与正电子湮没研究被引量:1
1995年
给出了纳米材料Fe2O3的X射线衍射与正电子湮没辐射多普勒展宽的实验结果.发现样品分别经400℃4h与800℃4h退火后,原来的γ-Fe2O3均转变成α-Fe2O3,而且颗粒尺寸分别增加到38.7nm与92.9nm;样品的线形参数均随退火温度升高而减小;当D~L+时,自由正电子湮没显著增加;压制压力较大的样品的缺陷浓度略有增加。
彭郁卿周诗瑶
关键词:纳米材料X射线衍射三氧化二铁
γ-Fe_2O_3超细微粒制备及基本特征被引量:3
1996年
采用络合中和沉淀法制取Fe3O4超细微粒,在一定条件下氧化制得γ-Fe2O3超细微粒.经X衍射(XPD)和透射电镜(TEM)物相分析和粒径观测.γ-Fe2O3超细微粒属四方晶型,其平均粒径<20nm.具有超细微粒粉材体效应特征.
赵林森周诗瑶杨海峰盛春
关键词:超细微粒体效应
碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系被引量:2
1999年
用X射线衍射(XRD)和透射电镜术(TEM)观察Si和Ge基板上PbTe、CdTe及PbGeTe单层薄膜及其与ZnS组合的多层薄膜的显微结构。
张素英范滨程实平凌洁华周诗瑶王葛亚施天生
关键词:碲化物显微结构
La(HSal)_2·hq和La(NOA)_2·hq三元配合物的NMR研究被引量:2
1995年
用~1HNMR和~13CNMR对La(HSal)_2·hq(镧-水杨酸-8羟基喹啉)和La(NoA)_2·hq(镧-萘氧乙酸-8羟基喹啉)三元配合物的研究结果表明:La(HSal)_2·hq中La^(3+)与Hhq上的O、N配位,同时H_2Sal中羧基失去质子,与La^(3+)配位,而H_2Sal中羟基未参与配位;La(NOA)_2·hq中La^(3+)与Hhq上的O、N配位,并且使HNOA中羧基失去质子,与La(2+)配位。
周诗瑶王则民曹锦荣
关键词:羟基喹啉配合物
X射线衍射K值法测定硫酸亚铁中一水硫酸亚铁含量被引量:1
1996年
用X射线衍射K值法测定硫酸亚铁中一水硫酸亚铁含量,测定K值选用上海焦化总厂钛白粉厂生产的一水硫酸亚铁标样,参比物选用α-二氧化硅,最后测得一水硫酸亚铁的K_(FeSO_4·H_2O)=1.48。
潘世伟周诗瑶王庭南潘慕兰
关键词:硫酸亚铁X射线衍射
用(XRD)和(TEM)研究碲化物薄膜附着牢固度与其显微结构的关系
薄膜的附着牢固度是膜层和光学元件的重要指标,它受基板,薄膜的机械性质(如硬度、附着力和应力等)和环境等因素的影响,薄膜牢固度一般是采用液氮和沸水浸泡及玻璃胶纸反复粘贴和撕拉的破坏性工艺试验来测定,但经粘拉试验后,一般完好...
张素英范滨程实平凌洁华周诗瑶王葛亚施天生鲍显琴
关键词:碲化物显微结构TEMXRD
文献传递
共1页<1>
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