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邱东华

作品数：1 被引量：9H指数：1
供职机构：江苏大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇强流脉冲
  • 1篇强流脉冲电子...
  • 1篇位错
  • 1篇纯镍

机构

  • 1篇江苏大学

作者

  • 1篇关庆丰
  • 1篇王雪涛
  • 1篇邱东华
  • 1篇程笃庆
  • 1篇程秀围
  • 1篇朱健

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
强流脉冲电子束诱发纯镍表层纳米结构的形成机制被引量：9
2009年
利用强流脉冲电子束(HCPEB)技术对多晶纯镍进行了表面处理,并采用扫描电镜和透射电镜对强流脉冲电子束诱发的表面及亚表面的微观组织结构进行了分析.实验结果表明,HCPEB辐照后表面熔化,形成了深度约为2μm的重熔层,快速的凝固使重熔层中形成晶粒尺寸约为80nm的纳米结构.位于轰击表面下方5—15μm深度范围内强烈塑性变形引起的位错墙和其内部的亚位错墙结构是该区域的主要结构特征.这些缺陷结构通过互相交割细化晶粒,最终导致尺寸约为10nm的纳米晶粒的形成.
程笃庆关庆丰朱健邱东华程秀围王雪涛
关键词：强流脉冲电子束
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