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柳逢春

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:北京理工大学光电学院更多>>
发文基金:北京市自然科学基金更多>>
相关领域:医药卫生电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇医药卫生

主题

  • 1篇电压
  • 1篇电压不稳定
  • 1篇电压不稳定性
  • 1篇电阻率
  • 1篇叠层
  • 1篇叠层结构
  • 1篇显示技术
  • 1篇晶体管
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射功率
  • 1篇薄膜晶体
  • 1篇薄膜晶体管
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇IGZO
  • 1篇层结构

机构

  • 2篇北京理工大学
  • 1篇昆明物理研究...
  • 1篇京东方科技集...
  • 1篇北方夜视科技...
  • 1篇重庆嘉陵华光...

作者

  • 2篇柳逢春
  • 2篇喻志农
  • 1篇张学辉
  • 1篇杨伟声
  • 1篇薛建设
  • 1篇张世玉
  • 1篇薛唯
  • 1篇杨伟生

传媒

  • 1篇光学技术
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
IGZO薄膜溅射功率对IGZOTFT栅电压不稳定性的影响被引量:1
2014年
采用不同溅射功率制备的铟镓氧化锌(IGZO)薄膜作为薄膜晶体管(TFT)的有源层,通过扫描电镜、霍尔效应测试仪,分析了溅射功率对IGZO薄膜形貌及电特性的影响,研究了不同IGZO溅射功率对IGZO-TFT栅偏压不稳定性的影响。结果表明,在一定范围内,低溅射功率使得IGZO薄膜的表面粗糙,缺陷较多,载流子浓度较低;在正栅极偏压作用下,低IGZO薄膜溅射功率导致较大的IGZO-TFT阈值电压漂移;在负偏压作用下不产生阈值电压漂移。
柳逢春喻志农杨伟声郑红川张世玉
关键词:薄膜晶体管IGZO溅射功率
钼缓冲层对钼/铜叠层结构电极特性的影响被引量:1
2015年
采用直流磁控溅射方法制备了钼/铜叠层结构电极,其电阻率达到2.28μΩ·cm,显著低于铝钕合金的电阻率;金属钼作为缓冲层,提高了铜电极在玻璃上的附着力;钼作为阻挡层有效地阻挡了铜向非晶硅中的扩散,避免了铜对于薄膜晶体管有源层的影响。采用这种结构的电极作为大尺寸高分辨平板显示器的扫描线和数据线有望缓解信号延迟的问题。
李旭远薛唯喻志农薛建设张学辉柳逢春杨伟生
关键词:显示技术电阻率
共1页<1>
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