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任红

作品数:3 被引量:17H指数:2
供职机构:重庆科技学院冶金与材料工程学院更多>>
发文基金:重庆市教育委员会科学技术研究项目国家自然科学基金重庆市自然科学基金更多>>
相关领域:理学金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇铁酸铋
  • 2篇铁电
  • 1篇电性能
  • 1篇电学性能
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶法
  • 1篇溶胶-凝胶法...
  • 1篇铁电性
  • 1篇凝胶法制备
  • 1篇漏电
  • 1篇漏电流
  • 1篇介电
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇BIFEO
  • 1篇掺杂
  • 1篇掺杂改性
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇重庆科技学院

作者

  • 3篇任红
  • 3篇符春林
  • 3篇孙远洋
  • 3篇张玉
  • 3篇雷天宇
  • 3篇蔡苇

传媒

  • 2篇表面技术
  • 1篇中国陶瓷

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
铁酸铋薄膜的溶胶-凝胶法制备及电性能研究进展被引量:11
2014年
铁酸铋是唯一一种在室温下存在的单相多铁材料,因其具有较高的铁电居里温度、较大的剩余极化强度、较小的禁带宽度和多铁特性,受到国内外的广泛关注。溶胶-凝胶法是制备铁酸铋薄膜的一种常见方法。综述了近年来溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了制备工艺参数(前驱液、退火温度、退火气氛、底电极)与掺杂对铁酸铋薄膜电性能的影响;分析了不同制备工艺导致薄膜电性能出现差异的原因;归纳、总结出了目前溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的较佳工艺条件;最后,指出了亟待解决的问题。
雷天宇孙远洋任红张玉蔡苇符春林
关键词:铁酸铋溶胶-凝胶法电学性能
磁控溅射法制备铁酸铋基薄膜的研究进展被引量:1
2014年
铁酸铋材料是唯一的室温单相多铁材料,在微电子学、光电子学等领域具有广泛的应用。磁控溅射法是制备铁酸铋薄膜的一种常见手段。本文综述了射频磁控溅射制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了溅射工艺参数(靶材、缓冲层、溅射气压、氧气压力、沉积温度)对其微结构与电性能的影响,并提出了亟待解决的问题。
孙远洋雷天宇张玉任红蔡苇符春林
关键词:磁控溅射铁电介电
BiFeO_3多铁薄膜掺杂改性研究进展被引量:8
2015年
铁酸铋是目前发现的唯一的室温单相多铁性的材料,其禁带宽度较小,剩余极化强度较大,居里温度较高,在光电器件、自旋电子器件、铁电随机存储器、磁电存储单元等领域有着广阔的应用前景。但铁酸铋薄膜存在漏电流较大、磁电耦合性较弱等问题,制约了在实际中的应用。离子掺杂具有操作方便、易于实现薄膜的微结构及性能调控等优点,因而受到广泛关注。综述了国内外近年来关于铁酸铋薄膜电性能掺杂改性的相关工作,阐述了不同种类的掺杂,包括A位(三价镧系元素与二价碱金属元素)、B位(过渡金属元素等)以及AB位共掺杂,同时根据掺杂对铁酸铋薄膜的漏电流、铁电性以及介电性能的影响,对A位掺杂和B位掺杂中的元素进行了分类,系统总结了各类元素掺杂改性的效果及其机理。最后,提出了铁酸铋薄膜亟待解决的问题。
张玉雷天宇任红孙远洋蔡苇符春林
关键词:铁酸铋漏电流铁电性
共1页<1>
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