您的位置： 专家智库 > >

武汉普迪真空科技有限公司

作品数：49 被引量：0H指数：0
相关机构：四川蜀兴优创安全科技有限公司宁波纬诚科技股份有限公司中铁建大桥工程局集团电气化工程有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术化学工程一般工业技术建筑科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 47篇专利
  • 2篇标准

领域

  • 7篇自动化与计算...
  • 3篇化学工程
  • 2篇建筑科学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 8篇镀膜
  • 6篇磁控
  • 5篇真空
  • 4篇等离子体
  • 4篇金刚石
  • 4篇溅射
  • 4篇刚石
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇单晶金刚石
  • 3篇底板
  • 3篇电机
  • 3篇镀膜技术
  • 3篇真空镀膜
  • 3篇真空装置
  • 3篇射频
  • 3篇天然金刚石
  • 3篇气压
  • 3篇内壁
  • 3篇壳体
  • 3篇靶材

机构

  • 49篇武汉普迪真空...
  • 2篇东莞市固达机...
  • 2篇中铁建大桥工...
  • 2篇宁波纬诚科技...
  • 1篇南京林业大学
  • 1篇华中师范大学
  • 1篇南京理工大学
  • 1篇北京控制工程...
  • 1篇中国计量大学
  • 1篇斯凯孚(中国...
  • 1篇深圳市睿达科...
  • 1篇立宏安全设备...
  • 1篇深圳市大寰机...
  • 1篇广东大铁数控...
  • 1篇莱茵技术-商...
  • 1篇温州神一轴业...
  • 1篇湖北九泰安全...
  • 1篇东莞市三信精...
  • 1篇山东华昱压力...
  • 1篇西安市康铖机...

年份

  • 5篇2025
  • 4篇2024
  • 6篇2023
  • 5篇2022
  • 8篇2021
  • 6篇2020
  • 6篇2019
  • 9篇2018
共 49 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种真空射频等离子清洗装置
本实用新型公开了一种真空射频等离子清洗装置，包括等离子清洗本体，所述等离子清洗本体的内部开设有放置腔，并且放置腔内壁的两侧均固定连接有U型板，所述U型板的内部滑动连接有放置板，并且U型板的底部固定连接有外壳，所述U型板的...
周炎文
文献传递
一种磁控溅射镀膜机的两面镀膜夹具
本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜机的两面镀膜夹具，包括底座和调节结构，所述底座的内部设置有调节结构，所述底座顶端的两侧固定连接有支撑杆，所述底座的一侧设置有转动机构。本实用新型通过调节结构的内部依次设置有滑杆、固定片、活...
周焱文
文献传递
一种粉体溅射镀膜装置
本实用新型涉及一种粉体溅射镀膜装置，包括镀膜腔体，所述镀膜腔体上部可转动设置有分离转盘，所述镀膜腔体中部的一侧设置有溅射阴极，所述镀膜腔体底部连接有输送管道进口端，所述输送管道的出口端连接至镀膜腔体的上部，所述输送管道的...
周焱文
文献传递
一种旋涂仪真空吸盘装置
本发明涉及旋涂设备技术领域，尤其是一种旋涂仪真空吸盘装置，包括真空外罩，所述真空外罩上贯穿设有电机轴，电机轴的轴线上设有气孔，所述电机轴的一端固定连接在电机的输出端上，另一端固定连接有密封圈，密封圈上吸固有样品，所述真空...
周焱文
文献传递
一种提高矩形平面溅射阴极靶材利用率的方法
本发明公开了一种提高矩形平面溅射阴极靶材利用率的方法，属于磁控溅射技术领域，其阴极座和五个永磁体，位于阴极座中部的永磁体与位于阴极座边缘的四个永磁体正面的一端磁极相反；通过矩形永磁铁的解析表达式，提出球面寻优法计算得到了...
周焱文马艳
一种新型陶瓷真空高温加热器
本实用新型公开了一种新型陶瓷真空高温加热器，涉及高温加热器领域，包括陶瓷外壳，所述陶瓷外壳内腔的腔壁上固定连接有第一隔热板，所述第一隔热板的内侧设有隔音层，所述隔音层的内侧设有隔板，所述隔板的内侧设有第二隔热板，所述第二...
周焱文
一种新型射频离子源3层柵网
本实用新型公开了一种新型射频离子源3层柵网，涉及光学技术领域，包括主体，所述主体外侧的中部旋转连接有安装固定卡块，所述安装固定卡块的一侧设有推块，所述推块的一端固定连接有旋转环钮，所述主体底端的内侧固定连接有一层栅网，所...
周焱文
一种全自动气动封装台
本发明涉及封装技术领域，尤其是一种全自动气动封装台,包括底座，底座的底部设有支脚，底座的顶部设有侧板，侧板上设有第一支撑板和第二支撑板，第一支撑板与第二支撑板之间设有双杆气缸，双杆气缸上设有高精度微调气压阀，高精度微调气...
周焱文
文献传递
一种新型低气压磁控溅射靶
本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其是一种新型低气压磁控溅射靶，包括框架，框架的外侧与固定机构的连接处固定连接有第二绝缘垫，框架的两侧下部均固定连接有支撑机构，支撑机构的上端固定连接有伸缩气缸，伸缩气缸的上端固定连接有连...
周焱文
文献传递
一种新型射频离子源
本实用新型涉及射频离子源技术领域，尤其是一种新型射频离子源，包括射频离子源本体和安装射频离子源本体的底座，所述底座的上侧中部横向开设有凹槽，所述凹槽内安装有直线电机，所述直线电机的上部安装有射频离子源本体，所述底座的上部...
周焱文
文献传递
全选 清除 导出
共5页<12345>
聚类工具0