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株式会社斯库林集团

作品数：2,163 被引量：0H指数：0
相关机构：默克专利有限公司株式会社写真化学国立大学法人鸟取大学更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 2,163篇中文专利

领域

  • 334篇电子电信
  • 157篇自动化与计算...
  • 109篇文化科学
  • 64篇金属学及工艺
  • 31篇轻工技术与工...
  • 26篇医药卫生
  • 16篇理学
  • 13篇经济管理
  • 12篇化学工程
  • 10篇机械工程
  • 7篇电气工程
  • 4篇环境科学与工...
  • 3篇建筑科学
  • 3篇政治法律
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇天文地球
  • 1篇矿业工程
  • 1篇水利工程
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 1,284篇基板
  • 260篇衬底
  • 217篇喷嘴
  • 171篇图像
  • 170篇工序
  • 139篇液膜
  • 116篇配管
  • 114篇照射
  • 108篇外周
  • 104篇图案
  • 94篇处理系统
  • 91篇下表面
  • 84篇出口
  • 73篇涂布
  • 73篇排气
  • 71篇蚀刻
  • 68篇印刷装置
  • 67篇气体
  • 63篇升华
  • 58篇药液

机构

  • 2,163篇株式会社斯库...
  • 6篇默克专利有限...
  • 4篇日立化成株式...
  • 4篇国立大学法人...
  • 4篇株式会社写真...
  • 3篇株式会社德山
  • 2篇栗田工业株式...
  • 2篇硅光机器公司
  • 2篇国立大学法人...
  • 2篇国立大学法人...
  • 2篇IMEC 非...
  • 1篇大金工业株式...
  • 1篇株式会社巴川...
  • 1篇赢创德固赛有...

年份

  • 304篇2025
  • 336篇2024
  • 328篇2023
  • 265篇2022
  • 272篇2021
  • 208篇2020
  • 218篇2019
  • 176篇2018
  • 49篇2017
  • 7篇2016
共 2,163 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
基板保持装置、基板处理装置以及基板保持方法
本发明提供在将基板相对于载置台定位在规定位置的状态下利用吸附盘将该基板吸附保持于载置台的基板保持装置、使用该基板保持装置的基板处理装置中以及基板保持方法，能够防止来自吸附盘的灰尘的产生和吸附盘的磨损。本发明的基板保持装置...
平井孝典
姿势转换装置及具备其的衬底处理装置
本发明涉及一种姿势转换装置及具备其的衬底处理装置。本发明是一种对多片衬底的姿势进行转换的姿势转换装置，且所述装置包含以下要件。反转夹盘，保持多片衬底；开闭驱动机构，在与所述反转夹盘之间用来交接所述多片衬底的打开位置，及用...
岩崎旭纮谷口进一
衬底处理方法及处理液
本发明涉及一种衬底处理方法及处理液。衬底处理方法包含处理液供给步骤、固化膜形成步骤及升华步骤。处理液供给步骤向衬底供给处理液。处理液包含升华性物质、溶剂及表面活性剂。固化膜形成步骤使溶剂及表面活性剂从衬底上的处理液中蒸发...
国枝省吾佐佐木悠太
基板处理装置、基板处理方法、学习用数据的生成方法、学习方法、学习装置、学习完成模型的生成方法及学习完成模型
本发明的基板处理装置(100)具备基板保持部(120)、药液供给部(130)、基板信息取得部(22a)、药液处理条件信息取得部(22b)、及控制部(22)。基板信息取得部(22a)取得包含硬化层厚度信息或离子注入条件信息...
阿野诚士小路丸友则
衬底处理装置
本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备第1搬送部(6a)及第2搬送部(6b)。第2搬送部(6b)设置在第1搬送部(6a)的下方。第1搬送部(6a)具有第1搬送空间(61a)、第1搬送FFU(11、12)及第1...
河原启之菊本宪幸
文献传递
基板处理装置
本发明提供一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，所述基板处理装置包括：分度器区，具有分度器机械手；处理区，作为处理单元，具有表面清洗单元以及背面清洗单元；以及翻转路径区，具有载置基板的多层搁板，并且具有翻转功能，所述分度...
内田雄三菊本宪幸河原启之
基板处理装置以及基板处理系统
本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单...
桥本光治清水进二堀口博司山本真弘
液体处理装置及液体处理方法
本发明涉及一种液体处理装置及液体处理方法。在显影装置中，使由旋转夹头吸附保持的衬底以水平姿势旋转。从具有在一方向上连续延伸的一个喷出口的显影液喷嘴将显影液喷出到衬底上。此时，以如下方式固定显影液喷嘴的姿势，即，对通过衬底...
柏山真人
文献传递
衬底处理装置
本发明的衬底处理装置具备：第1液处理室，对衬底进行液处理；第2液处理室，配置于第1液处理室的下方，对衬底进行液处理；第1供给通道，向第1液处理室供给气体；及第2供给通道，向第2液处理室供给气体。第1供给通道具有沿着大致铅...
稻垣幸彦
文献传递
基板处理装置及基板处理方法
在基板(W)的被处理面上形成有包含金属成分及感光性材料的抗蚀膜之后，由边缘曝光部(41)对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的抗蚀膜的部分进行曝光。接着，通过由显影液喷嘴(43)对基板的周缘部供给显影液，由此对被...
春本将彦浅井正也田中裕二金山幸司
文献传递
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