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东京応化工业株式会社
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92
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龙云株式会社
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2010
16篇
2009
10篇
2008
4篇
2007
26篇
2006
19篇
2005
1篇
2004
5篇
2003
1篇
2002
1篇
2000
1篇
1999
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用于生产等离子体显示器件前板的未焙烤的层板以及生产等离子体显示器件前板的方法
本发明提供用于生产等离子体显示器件前板的未焙烤的层板,以及生产该前板的方法。该层板包括可燃中间层,并且可包括未焙烧的介电层和光敏的未焙烧的阻隔材料层。该可燃中间层位于介电层和阻隔材料层之间,且能够在焙烤处理中燃烧,从而可...
节田齐
熊泽明
押尾公德
带谷洋之
文献传递
液浸曝光工艺用浸渍液及使用该浸渍液的抗蚀剂图案形成方法
一种浸渍液,是通过液体将抗蚀剂膜曝光的液浸曝光工艺用浸渍液,由对曝光工艺中使用的曝光光透明、其沸点为70-270℃的含氟类液体构成;以及一种抗蚀剂图案形成方法,包括将上述浸渍液直接配置在抗蚀剂膜或保护膜上的工序。可同时防...
平山拓
佐藤充
胁屋和正
岩下淳
吉田正昭
文献传递
支承板的粘贴方法
提供一种可以一边容易除去夹在半导体晶片等基片和支承板之间的气体一边压接的粘贴方法。在半导体晶片等基片(W)的电路形成面上涂敷粘接剂,在电路形成面上形成粘接剂层(1),接着加热粘接剂层(1)使其干燥固化,然后在上述粘接剂层...
稻尾吉浩
宫成淳
文献传递
旋转杯式涂敷装置
本发明的课题在于提供一种能够有效地防止涂敷液的飞散的旋转杯式涂敷装置。在内杯体(3)上固定有托盘(7),从该托盘(7)的各角部导出有排液引导管(10)。排液引导管(10)以前部(11)朝向前述排液回收通路(3a)的底部的...
山口和伸
佐保田勉
升芳明
山本夕记
文献传递
一字排列式显影处理装置及显影处理方法
本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板(W),在显影液供给部(2)中向表面供给显影液,在运送的同时进行显影反应,然后在显影液回收部(4)中回收...
岛井太
河田茂
文献传递
液浸曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的抗蚀剂图案形成方法
本发明提供含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分,且上述交联剂成分对液浸介质难溶的液浸曝光工艺用负性抗蚀剂材料,以及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法。由此在液浸曝光工艺中,即使在平板印刷曝光的光达到抗蚀剂膜的路径的至少上述抗...
岩下淳
平山拓
立川俊和
文献传递
狭缝涂布机的预备排出装置
本发明提供了一种能有效对加注辊进行粗洗和精洗的狭缝涂布机预备排出装置。附着有涂布液的加注辊向顺时针方向旋转,淋洗嘴向加注辊表面供给循环液,再用涂刷器刮落,潜入储存的洗涤液中,用第二个涂刷器刮落顽固的附着物。最后,用新液淋...
山口和伸
高濑真治
谷本恒夫
福留主计
文献传递
凹版印刷版、感光性组合物和印刷原版积层体
提供具有对各种印刷液的耐受性,具有优异的印刷适性的印刷版制造用感光性组合物、以及使用了该组合物的印刷用感光性印刷原版积层体及印刷版。在至少含有粘合剂树脂、光聚合性单体、以及光聚合引发剂的印刷版制造用感光性组合物中,作为粘...
高木利哉
平井隆昭
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薄膜电容器、薄膜电容器内置型高密度组装衬底、及薄膜电容器的制造方法
本发明提供不损害高密度组装衬底的电特性和尺寸特性,可内置在衬底内、并且具有充分的电容的薄膜电容器、薄膜电容器内置型高密度组装衬底、以及薄膜电容器的制造方法。制造下述结构的薄膜电容器,作为半导体布线板的内置用无源部件使用:...
逢坂哲弥
小岩一郎
桥本晃
佐藤善美
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用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜层压物
公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如右结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,(B)碱溶性化合物,...
水泽龙马
朝日伸吉
中里俊二
带谷洋之
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