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杭州格林达电子材料股份有限公司

作品数：59 被引量：12H指数：2
相关机构：北京科技大学中海油天津化工研究设计院有限公司天津理工大学更多>>
发文基金：浙江省科技计划项目更多>>
相关领域：化学工程电子电信理学文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 34篇专利
  • 14篇期刊文章
  • 8篇标准
  • 2篇会议论文

领域

  • 12篇化学工程
  • 6篇电子电信
  • 3篇理学
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇交通运输工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇经济管理
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇电气工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇医药卫生
  • 1篇文化科学

主题

  • 9篇甲基
  • 7篇蚀刻
  • 7篇蚀刻液
  • 7篇四甲基
  • 7篇四甲基氢氧化...
  • 7篇氢氧化
  • 7篇氢氧化铵
  • 7篇显影液
  • 6篇离子
  • 6篇活性剂
  • 6篇光刻
  • 6篇表面活性
  • 6篇表面活性剂
  • 5篇电路
  • 5篇电子化学品
  • 5篇溶剂
  • 5篇化学品
  • 5篇集成电路
  • 5篇光刻胶
  • 5篇半导体

机构

  • 58篇杭州格林达电...
  • 9篇北京科技大学
  • 5篇中海油天津化...
  • 2篇天津理工大学
  • 2篇潍坊门捷化工...
  • 2篇重庆盛清水处...
  • 2篇广东邦普循环...
  • 2篇杭州电化新材...
  • 2篇格林美股份有...
  • 1篇贵州省产品质...
  • 1篇中国电子材料...
  • 1篇北京浦仁美华...
  • 1篇江西核工业环...
  • 1篇深圳市深投环...
  • 1篇泉州市云尚三...
  • 1篇江苏盛勤环境...
  • 1篇内蒙古新福地...
  • 1篇赣州市豪鹏科...
  • 1篇衢州华友钴新...
  • 1篇浙江申联环保...

作者

  • 7篇王国杰
  • 1篇李梅彤

传媒

  • 4篇浙江化工
  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇经济技术协作...
  • 1篇天津化工
  • 1篇高分子学报
  • 1篇无机盐工业
  • 1篇应用化学
  • 1篇浙江冶金
  • 1篇中国科学：化...
  • 1篇中国科技期刊...
  • 1篇中文科技期刊...

年份

  • 5篇2025
  • 11篇2024
  • 6篇2023
  • 6篇2022
  • 10篇2021
  • 5篇2020
  • 10篇2019
  • 4篇2018
  • 1篇2017
共 59 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种低表面张力和低起泡性的十二碳炔基非离子Gemini表面活性剂及其制备方法
本发明一种低表面张力和低起泡性的十二碳炔基非离子Gemini表面活性剂及其制备方法，将聚乙二醇单甲醚、磺酰氯类物质加入反应容器一中，加入溶剂氯代烷烃使其充分溶解；加入弱碱，在室温下反应，收集得到淡黄色液体粗产物；将淡黄色...
邢攸美王国杰李雅琪方伟华尹云舰胡涛马杰文张之钧胡斌吴振
一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物
本发明公开了一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物，包括有机胺，质子性有机溶剂，非质子性有机溶剂，添加剂和表面活性剂；所述添加剂包括Al缓蚀剂、金属电位调节剂和表面亲水性改善剂；本发明抗蚀剂剥离液组合物成分环保，所用有机胺对...
胡涛邢攸美高立江王小栋方伟华何婷茹赵禹鸣章帅迪洪明卫施珂李林佳
一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法
本发明涉及一种用于ITO‑Ag‑ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法，其重量百分比组成如下：硝酸5～15％，硫酸5～15％，醋酸5～25％，添加剂0.01～1％，余量为水，所述添加剂为碱金属盐。该蚀刻液的制备方法为:...
胡涛倪芸岚高立江邢攸美龚升尹云舰方伟华
文献传递
超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统
本实用新型涉及一种超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统，所述系统包括原料罐，吸附槽、第一压力泵、第一级超重力精馏机、第一冷凝器、第一冷凝罐、第二压力泵、第二级超重力精馏机、沉降槽、过滤器、第三压力泵、第二冷凝器、第二冷凝...
胡涛邢攸美高立江王小眉李玉兴尹云舰方伟华
文献传递
一种低表面张力长效显影液的制备方法
本发明公开了一种低表面张力长效显影液。本发明的低表面张力长效显影液采用本发明制备的复合阳极电极在阴极电解的TMAH水溶液，配合碱性物质、醇或醚类物质、以及表面活性剂制备得到。电极的制备过程包括：采用原位合成法在钛基板表面...
邢攸美方伟华蒋哲男尹云舰高立江胡涛张之钧夏倩倪芸岚章帅迪徐钉李林佳金海安
先进制程用光刻胶及TMAH显影液的改进
2021年
光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤。其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液。在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚醛树脂-重氮萘醌体系,显影液一般采用2.38 wt%的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液;在193 nm、极紫外(EUV)光刻工艺中,光刻胶主要为含有酯基的聚合物-光致产酸剂(PAG)体系,此外由于接触的界面张力以及膨润问题,显影液中需要加入非离子表面活性剂。本文主要介绍几种先进光刻工艺中的光刻胶和显影液。
张之钧尹云舰李潇逸倪芸岚邢攸美
关键词：光刻工艺光刻胶显影液
一种高效连续的电子级氨水制备系统
本实用新型公开了一种高效连续的电子级氨水制备系统，包括液氨罐，所述液氨罐通过管道连接缓冲罐，所述缓冲罐的另一端通过管道连接水洗单元，所述水洗单元的另一端通过管道连接吸收罐，所述水洗单元靠近所述缓冲罐的一端还连接有废液处理...
蒋哲男邢攸美胡涛高立江王小栋刘永南王小眉方伟华尹云舰施珂沈健
非离子型Gemini表面活性剂研究进展及其在半导体湿电子材料中的应用
非离子型双子(Gemini)表面活性剂具备优异的表面活性和独特的分子结构，且不会引入金属离子杂质，在集成电路领域具有巨大的应用潜力。通过对Gemini非离子表面活性剂的部分基团的进行改性，能够显著提高其各项性能，应用于湿...
倪芸岚邢攸美胡涛尹云舰李潇逸张之钧王小栋余红刚
关键词：GEMINI表面活性剂集成电路
工业氟硅酸钠
本标准规定了工业氟硅酸钠的分型、要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输、贮存。 本标准适用于工业氟硅酸钠。该产品用作生产氟化工产品的原料，也可用作搪瓷助熔剂、玻璃乳化剂、耐酸胶泥和耐酸混凝土的凝固剂及木材防...
一种低表面张力长效显影液
本发明公开了一种低表面张力长效显影液。本发明的低表面张力长效显影液采用本发明制备的复合阳极电极在阴极电解的TMAH水溶液，配合碱性物质、醇或醚类物质、以及表面活性剂制备得到。电极的制备过程包括：采用原位合成法在钛基板表面...
邢攸美 方伟华 蒋哲男 尹云舰 高立江 胡涛 张之钧 夏倩 倪芸岚 章帅迪 徐钉 李林佳 金海安
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