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国家科技重大专项(2009ZX02308-002)

作品数：1 被引量：4H指数：1
相关作者：胡松赵立新李金龙周绍林更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院研究生院更多>>
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资助

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地区

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共 4 条 记 录，以下是 1-4
周绍林
供职机构：华南理工大学
研究主题：纳米光刻 条纹 光栅 光固化 投影光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵立新
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：光刻机 掩模 工件台 调制度 镜片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金龙
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：光刻机 工件台 掩模 节流孔 六自由度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡松
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：光刻机 工件台 光刻 掩模 生物芯片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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