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沈阳市科技计划项目(108155202200)
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
相关作者:
王亮
胡静涛
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相关机构:
沈阳化工大学
中国科学院
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发文基金:
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相关领域:
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中国科学院
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沈阳化工大学
作者
1篇
胡静涛
1篇
王亮
传媒
1篇
半导体技术
年份
1篇
2011
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光刻过程RtR控制方法研究进展分析
被引量:1
2011年
首先对光刻过程和RtR(Run-to-Run)控制技术的产生背景进行了介绍,对统计过程控制的不足进行了分析并给出了RtR控制器的一般结构。然后从过程建模和控制算法两个角度对三种主要的光刻过程RtR控制器EWMA,MPC和ANN进行了综述和评价,对这三种控制器在非线性控制、单变量控制、多变量控制的适用性和优化控制效果进行了比较分析。最后指出基于MPC的非线性多变量控制器将成为光刻过程RtR控制器的主要研究方向。
王亮
胡静涛
关键词:
半导体制造
过程控制
模型预测控制
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