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教育部“新世纪优秀人才支持计划”(NCEF-04-0896)

作品数:1 被引量:1H指数:1
相关作者:吕坚蒋亚东李波更多>>
相关机构:电子科技大学更多>>
发文基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氧化钒薄膜
  • 1篇振荡器
  • 1篇振荡器设计
  • 1篇直流磁控
  • 1篇温度补偿
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇蒋亚东
  • 1篇李波
  • 1篇王涛
  • 1篇魏雄邦
  • 1篇吕坚
  • 1篇吴志明

传媒

  • 1篇现代电子技术
  • 1篇2007高技...

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2007
1 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
一种高精度数字可调片上振荡器设计被引量:1
2009年
在传统的电路基础上对电流、电压基准电路进行补偿,设计一种高精度数字可调CMOS片上振荡器电路。利用电阻和PNP管相反的温度系数产生的自偏置基准电流电路PTAT,NTAT两路电流,叠加得到一路与温度无关的基准电流上,实现了温度补偿;利用电阻网络补偿工艺产生高PSRR带隙基准电路电压的频率误差;数字修调寄存器粗调电流用以选择频率,微调电阻用以调节精度。经流片测试表明,该振荡器频率2 MHz,4 MHz可选,2 MHz可调精度达±0.1%;4 MHz可调精度达±0.125%。
李波吕坚蒋亚东
关键词:温度补偿振荡器
氩流量对氧化钒薄膜直流磁控溅射制备的影响
在氧化钒薄膜的直流磁控溅射制备中,氩流量是影响沉膜工艺以及薄膜织构和性能的重要因素之一。从氧化钒薄膜制备角度出发,研究了纯氩环境以及氧流量恒定的氩氧混合环境中溅射电压和薄膜沉积速率随氩流量的变化。实验结果有助于对氧化钒薄...
魏雄邦王涛吴志明蒋亚东
关键词:磁控溅射氧化钒薄膜
文献传递
共1页<1>
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