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安徽省高校省级自然科学研究项目(KJ2009A006Z)
作品数:
1
被引量:3
H指数:1
相关作者:
吕建国
宋学萍
孙兆奇
黄飞
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2010
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射频磁控溅射制备SiO_2薄膜及性能表征
被引量:3
2010年
采用射频磁控溅射技术,制备4种不同溅射时间的SiO2薄膜.用XRD、PL、FTIR、UV-Vis等对薄膜的微结构、发光、红外吸收以及透、反射进行表征.结果表明:SiO2薄膜仍呈四方晶体结构,平均晶粒尺寸在17.39~19.92nm之间;在430nm附近出现了发光峰,在1049~1022cm-1之间出现了明显的红外吸收峰,且随着溅射时间的增加发生红移;在可见光范围内平均透射率大于85%.
宋学萍
黄飞
吕建国
孙兆奇
关键词:
SIO2薄膜
射频溅射
PL谱
红外吸收
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