国家重点实验室开放基金(SKLT05-02)
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- 聚电解质原位生长CuS纳米粒子分子沉积膜的制备及表征
- 2009年
- 采用分子沉积技术制备了基础聚二烯丙基二甲基氯化铵/聚丙烯酸分子沉积(MD)膜,然后在基础MD膜中原位反应生长了CuS粒子;利用紫外-可见分光光度计、X射线光电子能谱仪及原子力显微镜对此膜进行了表征。结果表明:在膜中原位生长的CuS颗粒为纳米粒子,且纳米粒子在膜中分布均匀,无明显团聚现象;随着反应时间的增加,纳米粒子的粒径明显增大;随着循环反应次数的增加,除纳米粒子的粒径略有增大外,纳米粒子的数量也明显增多。
- 郭岩宝王德国张嗣伟
- 关键词：分子沉积膜原位生长
- PDDA/Au NPs复合分子沉积膜的制备、表征和摩擦学行为
- 2008年
- 采用小分子柠檬酸钠对金纳米粒子进行包覆改性,紫外光谱分析经改性的金纳米粒子表面共振吸收峰为526,nm,激光纳米粒度仪分析表明其平均粒径为8.4,nm.改性后的金纳米粒子通过分子沉积技术,与聚二烯丙基二甲基胺盐酸盐(PDDA)组装,制得单层和多层PDDA/AuNPs复合纳米粒子分子沉积(MD)膜(简称PDDA/Au NPs复合MD膜).采用原子力显微镜(AFM)研究了PDDA/Au NPs复合MD膜的表面形貌以及摩擦、磨损行为.研究结果表明:该复合膜能降低基底的摩擦力,其中以3层膜降低摩擦力的效果最显著.在氮化硅探针扫描行程达到30次后,膜表面才开始出现磨损痕迹.随着扫描次数的增多,膜表面在探针剪切力的作用下逐渐由致密变得疏松,形成颗粒堆积,使表面粗糙度增大,摩擦力、磨损深度也随之增加.通过实验还发现这种复合膜存在两种非正常磨损现象,即磨损负增长和膜的脱落现象.
- 肖宇琦王德国张嗣伟高芒来
- 关键词：磨损
