国家民委科研基金(05ZN03) 作品数:20 被引量:82 H指数:5 相关作者: 孙奉娄 何翔 危立辉 陈首部 钟志有 更多>> 相关机构: 中南民族大学 更多>> 发文基金: 国家民委科研基金 中南民族大学自然科学基金 更多>> 相关领域: 金属学及工艺 一般工业技术 理学 自动化与计算机技术 更多>>
阳极氧化法制备TiO_2纳米管及特性研究 被引量:3 2008年 采用单向直流脉冲电源阳极氧化方法,在乙二醇+0.5%(wt)NH4F的电解质溶液中,在电压为40-60V之间制备了直径为90-142nm、管壁厚度为21.8-17nm的TiO2纳米管。对阳极氧化过程中加入和不加超声波辅助条件进行了对比实验。通过对试样的SEM测试和阳极氧化过程中数字万用表不间断采集得到的平均电流表明,TiO2纳米管的形貌、生长速度密切依赖于氧化处理的电参数和超声波辅助源。同时通过XRD和UV-Vis等检测手段对TiO2纳米管退火前后的特性进行了研究。 韦世良 何翔 孙奉娄 钟志有关键词:阳极氧化 TIO2纳米管 等离子体快速渗氮技术的实现 被引量:8 2007年 利用液相等离子体电解渗氮技术对AISI304不锈钢进行了渗氮处理.采用直流脉冲电源,选择恒压工作方式,放电电压250V左右,放电时间1~3min,在不同的无机盐与尿素组成的电解液体系中实现了快速渗氮.实验表明:在尿素-KCl电解液中处理过的试样放电状况最好,渗透层硬度最高. 潘红梅 何翔关键词:等离子体 表面改性 中频交流脉冲电源的研制 被引量:3 2007年 研制了150kHz中频交流脉冲电源,给出了中频交流脉冲电源的设计思路和实现方案.该电源采用全桥逆变拓朴电路、PWM控制方式、输出功率叠加的方案,具有输出变压器原边平均电流和副边峰值电流的过流保护功能.其输出峰值电压0~1200V连续可调,频率1~150kH z可调,脉宽占空比10%~40%可调,输出平均电流0~5A,最大输出功率5kW.利用该电源进行了等离子体化学气相沉积和反应溅射实验,证明该电源各项指标运行正常,工作稳定,具有良好的应用价值. 陈首部 孙南海关键词:等离子体源 LCD显示屏的上位机软件设计 被引量:4 2006年 分析了图形点阵式LCD显示系统的上下位机组成结构.以VC为开发平台,设计了上位机软件系统,它由文件、编辑、转换、显示、通信、帮助等6部分组成,可实现文本/图形文件的读写、文件点阵信息的转换、显示及信息下传,并可针对不同控制对象将此系统进行相应移植. 田晓梅 何翔 危立辉关键词:液晶显示屏 上位机 软件设计 VC++语言 微弧氧化锻铝表面形成陶瓷膜的工艺研究 被引量:1 2006年 用自行研制的微弧氧化电源在锻铝表面生成了氧化物陶瓷膜.观察了膜层表面形貌,测试了表面硬度,探讨了微弧放电对陶瓷膜和基体性能组织的影响.结果表明:锻铝表面的陶瓷膜随氧化时间的延长而增厚,但随氧化时间的继续增加膜层不再增厚;陶瓷膜的表面硬度是基体硬度的10倍以上,大大提高了材料表面的耐磨、耐蚀特性. 刘黎 何翔关键词:微弧氧化 锻铝 陶瓷膜 显微硬度 衬底温度对射频溅射沉积ZAO透明导电薄膜性能的影响 被引量:22 2009年 利用射频磁控溅射法制备了ZAO透明导电薄膜,通过XRD、SEM等手段对薄膜特性进行测试分析,研究了衬底温度对薄膜结构、表面形貌及其光电性能的影响.结果表明:衬底温度从300℃增加到400℃时,薄膜晶粒增大,晶粒结构分布规则,电阻率快速下降,可见光平均透过率明显提高.当衬底温度为400℃时ZAO薄膜的电阻率为2×10-3Ω.cm、透过率为84%,但是当衬底温度进一步升高时,薄膜性质将呈现下降趋势. 孙奉娄 惠述伟关键词:ZAO薄膜 衬底温度 电阻率 透过率 等离子体电解氧化陶瓷膜的工艺研究 被引量:3 2007年 利用等离子体电解氧化技术在铝合金6063表面生成了氧化物陶瓷膜.测试了氧化膜表面厚度和硬度,观察了膜层表面形貌,分析了氧化陶瓷膜的成分,探讨了不同电流密度对形成陶瓷膜厚度和硬度的影响.结果表明:铝合金6063表面陶瓷膜的厚度和硬度随电流密度的增大而提高,但有一极限值平均电流密度极限值为25 A/dm2.;随氧化时间的延长而增厚增硬,但也有一极限值,氧化时间极限值为45 min. 刘黎 危立辉关键词:等离子体电解氧化 铝合金 氧化陶瓷膜 直流脉冲阳极氧化制备TiO2纳米管阵列及其特性研究 2007年 在乙二醇+0.5%(质量分数)NH扩的电解质溶液中利用单向直流脉冲电源阳极氧化方法,在电压为40-60v之间制备了直径为90-142nm、管壁厚度为21.8-17nm的TiO2纳米管,SEM测试表明TiO2纳米管的形貌和生长速度密切依赖于氧化处理的电参数,同时通过XRD和Uv-Vis等检测手段对TiO2纳米管退火前后的特性进行了研究。 韦世良 何翔 孙奉委 钟志有关键词:阳极氧化 TIO2纳米管 真空退火处理对光敏薄膜及聚合物太阳电池性能的影响 被引量:22 2009年 采用掺锡氧化铟玻璃作为衬底,制备了聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1-4-苯撑乙烯]光敏薄膜及其器件,研究了退火处理对薄膜形貌和光电性能的影响.透射光谱和AFM研究表明,退火处理改善了薄膜的表面形貌、降低了薄膜的光学能隙.另外,通过分析器件伏安特性发现,退火处理有助于提高薄膜的电导率和载流子迁移率.这些实验结果对于提高聚合物太阳电池的能量转换效率、改善器件的光伏性能具有非常重要的意义. 顾锦华 钟志有 何翔 孙奉娄关键词:退火处理 双层辉光沉积TiN涂层的力学性能研究 2009年 采用双层辉光离子渗金属技术,在硬质合金YG8基体表面上沉积TiN涂层,通过外观、宏观性能和显微硬度等分析测试,研究了源极到阴极距离、基体温度、辉光放电气压对TiN涂层性能的影响.结果表明:TiN涂层的致密度、均匀性主要受源极到阴极距离的影响,其结合力主要取决于基体温度,而"边缘效应"则主要与辉光放电气压密切相关.双层辉光沉积TiN涂层的优化工艺参数为源极到阴极距离10~12 mm,基体温度750~850℃,气压280~340 Pa,所沉积TiN涂层的最高显微硬度可达2 356 HV0.05. 陈首部 韦世良 何翔 孙奉娄关键词:辉光放电 TIN涂层 力学性能