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湖南教育厅科学研究项目(07C424)
作品数:
1
被引量:3
H指数:1
相关作者:
蒋爱华
王德安
肖剑荣
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相关机构:
桂林工学院
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肖剑荣
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蒋爱华
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1篇
2008
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退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响
被引量:3
2008年
采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了含氮氟非晶碳膜,着重考察了退火温度对膜结构和光学带隙的影响.研究发现:在350℃时,膜仍很稳定,当退火温度达到400℃时,其内各化学键的相对含量发生很大的改变.膜的光学带隙随着退火温度的升高而增大,红外和拉曼光谱分析显示其原因是:退火使得膜内F的相对浓度降低,sp2相对含量升高,导致σ-σ*带边态密度降低.
蒋爱华
肖剑荣
王德安
关键词:
退火
光学带隙
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