王吕华
作品数： 1被引量：0H指数：0
  • 所属机构:中国电子科技集团公司第43研究所
  • 研究方向:金属学及工艺

相关作者

杨磊
作品数：4被引量：2H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第43研究所
研究主题：金属外壳 厚度 均匀性 电镀层 抗疲劳
陈华三
作品数：10被引量：28H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第43研究所
研究主题：化学镀镍 金属外壳 酸性镀铜光亮剂 中间体 阳极
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