冯玢
作品数： 1被引量：1H指数：1
  • 所属机构:天津电子材料研究所
  • 所在地区:天津市
  • 研究方向:理学

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孙毅之
作品数：4被引量：2H指数：1
供职机构：天津电子材料研究所
研究主题：面接触 雪崩击穿 硅外延片 硅外延 击穿
郑庆瑜
作品数：8被引量：12H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：半绝缘砷化镓 TSC 热激电流 硅 硅铝合金
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